帶基片加熱和氣氛處理的勻膠機的制作方法

                文檔序號:10602454
                帶基片加熱和氣氛處理的勻膠機的制作方法
                【專利摘要】一種帶基片加熱和氣氛處理的勻膠機,包括:一圓筒;一立軸位于圓筒的中間並穿過圓筒的底部;一升降支架位于立軸上,該升降支架的上端爲置物台,該升降支架可以旋轉;一進氣管道從圓筒外部通入圓筒內;一活動噴嘴的一端與進氣管道相連,另一端對准該升降支架上端的置物台;一立柱固定在圓筒內的一側,該立柱的上端連接有一支臂,該支臂的另一端與活動噴嘴相連,通過調節該支臂進而達到控制活動噴嘴的方向;一泵,該泵通過立軸與升降支架上端的置物台連接,用于抽、放氣體,保證樣品的吸附和脫吸附;一頂蓋扣置于圓筒的上方。本發明能在氣氛處理的情況下在基片上旋塗薄膜,從而能夠實現邊化學反應邊旋塗薄膜的效果。
                【專利說明】
                帶基片加熱和氣氛處理的勻膠機
                技術領域
                [0001]本發明屬于半導體工藝設備,特別是指一種帶基片加熱和氣氛處理的勻膠機,該設備能在氣氛處理的情況下旋塗薄膜,從而能夠實現邊化學反應邊旋塗薄膜的效果,因此增加了勻膠機的附加功能。【背景技術】
                [0002]傳統的勻膠機的原理通常是在高速旋轉的基片上,滴注各類溶液,利用托盤轉動産生的離心力使滴在基片上的溶液均勻地塗覆在基片上,厚度視不同溶液和基片間的粘滯系數差異而不同,同時也和旋轉速度及時間有關。勻膠機有很多種稱謂,又稱甩膠機、勻膠台、旋轉塗膠機、旋轉塗膜機、旋轉塗層機、旋轉塗布機、旋轉薄膜機、旋轉塗覆儀、旋轉塗膜儀、勻膜機,它們的功能和原理基本一致。
                [0003]本發明設計一種帶氣氛處理的勻膠機設備,該設備能在氣氛處理的情況下旋塗薄膜,從而能夠實現邊化學反應邊旋塗薄膜的效果,因此增加了勻膠機的附加功能。
                [0004]普通的勻膠機有幾個問題:1、設備標示的轉速和電機的實際轉速相差較大。2、真空吸附系統的構造如果不夠合理,真空吸附力降低,會導致基片吸附不住而産生“飛片”的情況,還會讓滴膠液不慎進入真空管道系統造成完全堵塞。3、普通的勻膠機不帶氣氛處理樣品,從而只能作單純的物理旋塗。本發明可規避以上不足,並增加基片加熱和氣氛處理的功能。
                【發明內容】

                [0005]本發明的目的在于,提供一種帶基片加熱和氣氛處理的勻膠機,該勻膠機能在氣氛處理的情況下在基片上旋塗薄膜,從而能夠實現邊化學反應邊旋塗薄膜的效果。
                [0006]本發明提供一種一種帶基片加熱和氣氛處理的勻膠機,包括:
                [0007]—圓筒;
                [0008]—立軸,該立軸位于圓筒的中間並穿過圓筒的底部;
                [0009]—升降支架,該升降支架位于立軸上,該升降支架的上端爲置物台,該升降支架可以旋轉;
                [0010]—進氣管道,該進氣管道從圓筒外部通入圓筒內;
                [0011]—活動噴嘴,該活動噴嘴的一端與進氣管道相連,另一端對准該升降支架上端的置物台;
                [0012]—立柱,該立柱固定在圓筒內的一側,該立柱的上端連接有一支臂,該支臂的另一端與活動噴嘴相連,通過調節該支臂進而達到控制活動噴嘴的方向;
                [0013]—栗,該栗通過立軸與升降支架上端的置物台連接,用于抽、放氣體,保證樣品的吸附和脫吸附;
                [0014]一頂蓋,該頂蓋扣置于圓筒的上方。
                [0015]本發明的特點是:
                [0016]1、勻膠機帶氣氛處理裝置。
                [0017]2、氣氛處理裝置位置方向可調。[〇〇18]3、置物台帶加熱功能【附圖說明】
                [0019]爲進一步說明本發明的技術內容,以下結合實施例及附圖詳細說明如後,其中:
                [0020]圖1爲本發明的結構示意圖。【具體實施方式】
                [0021]請參閱圖1所示,本發明提供一種帶基片加熱和氣氛處理的勻膠機,包括:[〇〇22] 一圓筒型腔體10,該圓筒10的材料爲金屬材質,或是聚四氟乙烯或陶瓷材料;[〇〇23] 一立軸20,該立軸20位于圓筒10的中間並穿過圓筒10的底部;[〇〇24] 一升降支架30,該升降支架30位于立軸20上,該升降支架30的上端爲置物台31,置物台內有封閉式加熱管。該升降支架30可以旋轉,該升降支架30的材料爲金屬材質,或是聚四氟乙烯或陶瓷材料,該該置物台31的表面開有氣孔或氣槽以便抽、放氣之用,並且該置物台31具有加熱功能;[〇〇25] 一進氣管道40,該進氣管道40從圓筒10外部通入圓筒10內,該進氣管道40爲柔性材料;[〇〇26] 一活動噴嘴50,該活動噴嘴50的一端與進氣管道40相連,另一端對准該升降支架 30上端的置物台31,該活動噴嘴50的材料爲單質或合金金屬材質,或是聚四氟乙烯或陶瓷材料;
                [0027] —立柱60,該立柱60固定在圓筒10內的一側,該立柱60的上端連接有一支臂61,該支臂61的另一端與活動噴嘴50相連,通過調節該支臂61進而達到控制活動噴嘴50的方向; [〇〇28] 一栗70,該栗70通過立軸20與升降支架30上端的置物台31連接,用于抽、放氣體, 該栗70爲機械栗、分子栗或離子栗;[〇〇29] 一頂蓋80扣置于圓筒10的上方。
                [0030]本發明的工作過程分成兩種:真空型和非真空型兩種。
                [0031]真空模式工作過程:打開頂蓋80,將樣片至于置物台,吸附,調整噴嘴50角度和位置,設置流量,設置置物台加熱溫度,設置轉速、時間,關閉頂蓋,抽真空至所需真空度。通入所需氣氛氣體,當溫度達到恒定穩定設定溫度,以設定轉速設定時間進行運轉,到達設定時間後,停止轉動,腔體充氣、開蓋,停止樣片吸附。[〇〇32]非真空模式工作過程:打開頂蓋80,將樣片至于置物台,吸附,調整噴嘴50角度和位置,設置流量,設置置物台加熱溫度,設置轉速、時間,關閉頂蓋,通入氣體,當溫度達到恒定穩定設定溫度,以設定轉速設定時間進行運轉,到達設定時間後,停止轉動,開蓋,停止樣片吸附。
                [0033] 實施例1[〇〇34]50.帶方向調整的活動噴嘴,角度調整範圍-60°至60° ; 30.帶平移的升降支架,平移範圍0至1031m,升降範圍0-1031m; 31.帶出氣孔置物台,滿足流體力學設計;轉速範圍0-6000rpm/s,分兩檔控制:低速擋l_500rpm/s,時間範圍0-30S;高速檔500-6000rpm/s,時間範圍0-60S。置物台加熱範圍爲0-300 °C ;置物台被電動機帶動旋轉同時可上下振動10.不鏽鋼圓柱型腔體70.無油栗組成。
                [0035]實施例2[〇〇36]50.帶方向調整的活動噴嘴,角度調整範圍-80°至80° ; 30.帶平移的升降支架,平移範圍0至1231m,升降範圍0-1231m;31.帶出氣槽置物台,置物台氣槽分布滿足流體力學設計;轉速範圍0-8000rpm/s,分兩檔控制:低速擋l-300rpm/s,時間範圍0-20S;高速檔300-8000rpm/s,時間範圍0-100S。置物台加熱範圍爲0-300°C;置物台加熱範圍爲0_200°C;置物台被電動機帶動旋轉同時可上下振動10.不鏽鋼圓柱型腔體70.無油栗組成。[〇〇37]實施例3[〇〇38]50.帶方向調整的活動噴嘴,角度調整範圍-50°至50° ;30.帶平移的升降支架,平移範圍0至831m,升降範圍0-831m;31.帶出氣孔置物台,置物台氣孔分布滿足流體力學設計;轉速範圍〇-l〇〇〇〇rpm/s,分兩檔控制:低速擋l-600rpm/s,時間範圍0-30S;高速檔600-10000rpm/S,時間範圍0-80S。置物台加熱範圍爲0-200°C;置物台被電動機帶動旋轉同時可上下振動10.不鏽鋼圓柱型腔體70.無油栗組成。
                [0039]實施例4[〇〇4〇]50.帶方向調整的活動噴嘴,角度調整範圍-60°至60° ;30.帶平移的升降支架,平移範圍0至531m,升降範圍0-531m;31.帶出氣槽置物台,置物台氣槽分布滿足流體力學設計;轉速範圍0-5000rpm/s,分兩檔控制:低速擋1 -200rpm/s,時間範圍0-20S;高速檔200-5000rpm/s,時間範圍0-100S。置物台加熱範圍爲0-300°C ;置物台被電動機帶動旋轉同時可上下振動10.不鏽鋼圓柱型腔體70.無油栗組成。[〇〇41]以上所述的具體實施例,對本發明的目的、技術方案和有益效果進行了進一步詳細說明,所應理解的是,以上所述僅爲本發明的具體實施例而已,並不用于限制本發明,凡在本發明的精神和原則之內,所做的任何修改、等同替換、改進等,均應包含在本發明的保護範圍之內。
                【主權項】
                1.一種帶基片加熱和氣氛處理的勻膠機,包括:一圓筒;一立軸,該立軸位于圓筒的中間並穿過圓筒的底部;一升降支架,該升降支架位于立軸上,該升降支架的上端爲置物台,該升降支架可以旋 轉;一進氣管道,該進氣管道從圓筒外部通入圓筒內;一活動噴嘴,該活動噴嘴的一端與進氣管道相連,另一端對准該升降支架上端的置物 台;一立柱,該立柱固定在圓筒內的一側,該立柱的上端連接有一支臂,該支臂的另一端與 活動噴嘴相連,通過調節該支臂進而達到控制活動噴嘴的方向;一栗,該栗通過立軸與升降支架上端的置物台連接,用于抽、放氣體,保證樣品的吸附 和脫吸附;一頂蓋,該頂蓋扣置于圓筒的上方。2.根據權利要求1所述的帶基片加熱和氣氛處理的勻膠機,其中活動噴嘴的材料爲單 質或合金金屬材質,或是聚四氟乙烯或陶瓷材料。3.根據權利要求1所述的帶基片加熱和氣氛處理的勻膠機,其中升降支架的材料爲金 屬材質,或是聚四氟乙烯或陶瓷材料。4.根據權利要求1所述的帶基片加熱和氣氛處理的勻膠機,其中該置物台具有加熱功 能,置物台旋轉頻率可控,可連續變頻或混沌變頻。5.根據權利要求1所述的帶基片加熱和氣氛處理的勻膠機,其中該圓筒的材料爲金屬 材質,或是聚四氟乙烯或陶瓷材料。6.根據權利要求1所述的帶基片加熱和氣氛處理的勻膠機,其中該進氣管道爲柔性材 料。7.根據權利要求1所述的帶基片加熱和氣氛處理的勻膠機,其中該活動噴嘴的噴氣方 式可控,爲連續或間斷噴氣。
                【文檔編號】B05C9/14GK105964488SQ201610370710
                【公開日】2016年9月28日
                【申請日】2016年5月30日
                【發明人】黃芳, 袁國棟, 李晉閩
                【申請人】中國科學院半導體研究所
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